Nos ingénieurs sont là pour vous aider.
Que vous ayez besoin de traitements à seuil de dommage laser élevé, de substrats optiques laser, de composants optiques ou d'assemblages laser aux tolérances strictes, nous disposons de l'expertise et de l'équipement de pointe pour fabriquer et mesurer les optiques laser nécessaires à votre application. Contactez nos ingénieurs expérimentés en optique laser pour obtenir des spécifications plus strictes que celles indiquées dans les tableaux ci-dessous.
Conception d’après le dessin du client ou entièrement personnalisée
Fabrication, du prototypage à la production en série
Traitements complexes : seuil de dommage laser élevé, antireflets multibande, hautement réfléchissant ou partiellement réfléchissant
Traitements antireflets pour les longueurs d'onde de 248 nm à 12 µm et hautement réfléchissants pour les longueurs d'onde de 248 nm à 40 µm
Métrologie de pointe utilisée pour répondre aux spécifications de façon constante.
Les ingénieurs d'Edmund Optics® disposent de l'expertise nécessaire pour vous guider dans le choix de la meilleure technologie de traitement pour votre application.
Exemples de courbes de traitement
Ces courbes de traitement ne constituent pas un résumé exhaustif des capacités, mais elles montrent quelques exemples des traitements conçus par Edmund Optics®.
Traitements par faisceau d'électrons (E-Beam)
Traitements à faible contrainte et rentables, idéaux pour de nombreuses optiques laser
Dépôt assisté par ionisation (Ion Assisted Deposition, IAD)
Technologie de traitement polyvalente permettant d'obtenir des traitements plus denses et plus stables du point de vue de l'environnement
Traitements par pulvérisation ionique (IBS)
Technologie hautement reproductible et très stable, idéale pour les réflectivités élevées, les optiques ultrarapides et les filtres à transitions nettes
Pulvérisation magnétron
La faible pression de la chambre réduit le temps de préparation et permet un traitement plus économique des optiques de grand volume.
| Capacités de traitement optique | |
|---|---|
| Spécifications | Valeur |
| Dimensions | 2 – 457,2 mm |
| Ouverture utile | Jusqu'à 100% (en fonction des dimensions, de la géométrie et des tolérances du substrat) |
| Réflectivité | 0,05 - 99,99% (pertes de l'ordre du ppm sur demande) |
| Gamme de longueurs d'onde antireflets | 248 nm – 12 µm |
| Gamme de longueurs d'onde hautement réfléchissantes | 248 nm – 40 µm |
| Seuil de dommage laser (LDT) pour les impulsions de ns | >40 J/cm2 aux impulsions @ 1064 nm, 20 ns, 20 Hz, garanti |
| Seuil de dommage laser (LDT) pour les impulsions fs ultrarapides | >0,3 J/cm3 aux impulsion @ 800 nm, 48 fs, 100 Hz, garanti >0,7 J/cm2 @ 800 nm, 200 fs, 100 Hz >0,4 J/cm2 @ 1030 nm, 200 fs, 100 Hz >0,9 J/cm2 @ 1030 nm, 500 fs, 100 Hz |
| Gamme de dispersion de retard de groupe (GDD) | -4.000 – 5000 fs2 |
| Durabilité | MIL-PRF-13830B APP C, PARA C.3.8.4, PARA C.3.8.5, MIL-C-48497A |
| Technologie de traitement | Traitements par faisceau d'électrons avec ou sans dépôt assisté par ionisation (IAD), traitement par pulvérisation ionique (IBS) |
| Longueur d'onde de coupure cut-off, filtres passe-bas | 400 – 1600 nm |
| Longueur d'onde de coupure cut-on, filtres passe-haut | 240 – 7300 nm |
| CWL, OD et bande passante, filtre passe-bande | 193 – 10.600nm, >OD 7, 1 nm – large bande |
| CWL de filtres coupe-bande | 355 – 1064 nm |
| OD de filtres ND réfléchissants | OD 0,1 – OD 3 |
| Tolérance long. d’onde centrale du filtre | ±1 nm |
| Tolérance du bord du filtre | <1% d'écart, <0,2% en cas particuliers |
| Gamme de longueurs d'onde pour séparateurs de faisceau | 240 – 20.000 nm |
| Rapport d'extinction de polarisation sép. faisceau (S:P) | 10.000 : 1 |
Miroirs, fenêtres, filtres et polariseurs dans une grande variété de substrats
| Capacités en matière de composants optiques plans | |
|---|---|
| Diamètre | 5 – 200 mm |
| Tolérances dimensionnelles | +0/-0,010 mm |
| Épaisseur | ±0,010 mm |
| Ouverture utile | >90% |
| Planéité de surface (P - V) | Λ/10 à λ/20 |
| Biseau (largeur @ 45°) | <0,25 mm |
| Qualité de surface | 10-5 |
| Parallélisme | <10 arcsec |
| Matériaux | Silice fondue de qualité UV (Corning HPFS® 7980), silice fondue de qualité KrF (Corning HPFS® 7980), silice fondue de qualité IR (Corning HPFS® 7979), saphir, N-BK7, N-SF5, N-SF11, CaF2, etc |
| Rugosité de surface | 10 - 15 Å typique, <1 Å pour les surfaces superpolies |
Lentilles asphériques, sphériques, singlets et achromatiques conçues pour des longueurs d'onde laser spécifiques
| Capacités en matière de lentilles | |
|---|---|
| Diamètre | 5 – 200 mm |
| Tolérance de diamètre | +0/-0,010 mm – +0/-0,025 mm |
| Erreur de forme asphérique (P - V) @ 633 nm | 1λ |
| Rayon au sommet (asphère) | ±0,1% |
| Erreur de pente maximale | 0,35 μm/mm par intervalle de 1 mm |
| Centrage (déviation du faisceau) | 1 arcmin |
| Tolérance sur l'épaisseur au centre | ±0,050 mm |
| Qualité de surface (Scratch Dig) | 10-5 |
| Métrologie des surfaces asphériques | Profilométrie (3D) |
| Rugosité de surface (RMS) | 2 nm |
| Épaisseur | ±0,010 mm |
| Erreur sphérique (P-V) | λ/2 |
| Irrégularité (P - V) | λ/40 |
Découpage, meulage, polissage, traitement de cristaux pour un LDT et un débit élevés, et remise en état
| Capacités en matière de cristaux laser | |
|---|---|
| Tolérances dimensionnelles | ±0,1 mm |
| Facteurs de forme | Tige, rectangulaire et zigzag |
| Ouverture utile | 90% du diamètre |
| Qualité de surface | 10-5 |
| Parallélisme des surfaces polies | <10 arcsec |
| Parallélisme des extrémités inclinées | <3 arcmin |
| Perpendicularité | <5 arcmin |
| Figure de surface | λ/10 à 632,8 nm sur l'ouverture utile |
| Chanfrein de protection | Ne doit pas empiéter sur l’ouverture utile |
| Matériaux | YAG, YLF, YALO, KTP, LBO, BBO, YVO4 PPSLT, PPLN et verres dopés au phosphate. |
Grande variété de formes de prisme et de substrats avec contact optique disponible pour les applications de modification de la trajectoire d’un faisceau à haute puissance
| Capacités en matière de prismes | |
|---|---|
| Dimensions | 2 – 75 mm |
| Tolérances dimensionnelles | +0/-0,01 mm |
| Hauteur du prisme | >±0,03 mm |
| Irrégularité | λ/20 |
| Tolérance angulaire du prisme | ± 0,5 arcsec |
| Biseau max. (largeur à 45°) | ±0,05 mm |
| Qualité de surface (Scratch Dig) | 10-5 |
| Déviation de faisceau pour les assemblées de prismes collés | 0,5 arcmin |
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Délai de 4 semaines pour la modification de la longueur d'onde ou du filetage sur les expanseurs de faisceau standard
Capacités de conception et de fabrication d'expanseurs de faisceau, d'objectifs de focalisation et d'autres sous-ensembles d'optique laser sur mesure
Alignement et centrage actifs pour les assemblages avancés
Assemblages de haute puissance conçus sans images fantômes à focalisation interne
Développement complet de l'assemblage, depuis la modélisation de la propagation physique de l'optique jusqu'aux essais des ensembles finis, en passant par la conception des éléments de lentilles, par le revêtement et l'assemblage.
| Capacités en matière d’expanseurs de faisceau | |
|---|---|
| Puissance d'expansion | > 1X - 20X |
| Longueur d’onde de conception | Raies laser communes, y compris Nd:YAG, Yb:YAG, Ti:saphir et lasers à fibre dopés Tm/Ho, large bande |
| Montures | Monture C, M22, M30, personnalisation |
| Mécanismes de mise au point disponibles | Composants optiques coulissants, rotatifs, fixes |
| Spécification d’essai/de conception | Erreur de front d'onde transmis, Power in the Bucket (PIB) / énergie sur cible, taille du point focalisé |
| Taille de l'assemblage | > 20 mm – 1 m |
| Possibilité de renforcement | Athermalisation, chocs et vibrations, étanchéité aux contaminants |
Transfert du concept à la fabrication en série
Prototypage accéléré
Assemblage en salle blanche
Alignement et centrage actifs
Essais et certification
Essais en interne pour mesurer la performance de l'assemblage
Erreur de front d'onde transmis, profilage du faisceau laser et caustique du faisceau
Développement de tests spécifiques aux applications
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Edmund Optics® conçoit et dépose des traitements hautement réfléchissants et antireflets pour les lasers ultrarapides ainsi que des traitements laser ultrarapide en argent amélioré.
Conception entièrement personnalisée de traitements et de composants
Service de commandes de quantités importantes très flexible
Tarification sur volume compétitive
Support technique dédié et personnalisé en fonction de vos besoins
Réflexion >99,99% (pertes de l'ordre du ppm sur demande)
Des traitements plus stables sur le plan environnemental dans des conditions de température et d'humidité variables
Traitements couvrant les longueurs d'onde entre 355 et 1600 nm
Contrôle de la dispersion de retard de groupe (GDD) pour les traitements ultrarapides
Minimise la perte par dispersion grâce à une rugosité de surface ultra-faible
Rugosité de surface RMS <1 Å
Tailles et formes standard de 12,7 à 50,8 mm
Dimensions et formes personnalisées sur demande
Soutenu par un ensemble de systèmes de métrologie internes
Dispersion au niveau des parties par million
Laboratoire laser interne réalisant des expériences d'exposition au laser UV appliqué à long terme
La contamination induite par le laser est une préoccupation majeure pour les systèmes laser UV
La contamination due à l'environnement ou au dégazage peut réduire considérablement les performances ou entraîner une défaillance du système
La connaissance approfondie des techniques de nettoyage et d'assemblage permet d'atténuer ces effets
Tests internes pour l'erreur de front d'onde transmise, la « Power in the Bucket », l'énergie sur la cible et la taille du point focalisé
Compensation active du décentrage et de l'inclinaison des composants optiques pendant l'assemblage
Essentiels pour les objectifs de précision, les expanseurs de faisceau et d'autres assemblages
4 salles blanches ISO de classe 6 pour l'assemblage et une salle blanche de classe 7 pour l'inspection à l'arrivée
Fabrication de composants optiques
