Nouvelles Optiques Laser
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Miroirs Laser Ultrarapides en Silicium Traités Argent Amélioré
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- Substrat de silicium pour les systèmes de lasers à impulsions ultracourtes exigeants sur le plan thermique
- Idéaux pour les système basés sur les lasers à impulsions ultracourtes Ti:saphir et Yb
- Conçus pour la réflexion d'impulsions ultrarapides où une faible dispersion est essentielle
- GDD <30 fs² dans les gammes de longueurs d'onde cibles
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Substrats de Miroirs Laser en Silicium
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- Substrat de silicium pour les systèmes de lasers à impulsions ultracourtes exigeants sur le plan thermique
- Planéité de surface de λ/10 et qualité de surface de 40-20
- Disponibles en diamètres standard pour la flexibilité du traitement et l'intégration dans les systèmes
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Façonneurs de Faisceau à Intensité Uniforme 3D de Midel Photonics
- Profil de faisceau à intensité uniforme sur une plage axiale étendue
- Rendement élevé avec de faibles lobes latéraux pour le micro-usinage à spot réduit
- Modelage du faisceau à intensité uniforme (Flat-Top) grâce à une profondeur de champ étendue
- DOE (élément optique diffractif) à réflexion continue basé sur un miroir micro-structuré
- Conçus pour les systèmes laser industriels, des ondes continues aux impulsions ultracourtes
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Retardateurs de Phase Aurora XUV d'UltraFast Innovations (UFI)
- Polarisation quasi circulaire de la lumière UV extrême (XUV) sans ajout de dispersion
- Jusqu'à 40% de transmission max.
- Options de gamme spectrale de 40 – 85 eV (15 – 31 nm) ou 10 – 35 eV (31 – 124 nm)
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Méta-Lentilles à Profondeur de Foyer Étendue (EDOF)
- Options de profondeurs de foyer de 200 à 250 mm et de 50 à 62,5 mm
- Profil plat, épaisseur ultra-mince de 0,45 mm
- Options de 808, 1030 et 640 nm disponibles
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