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Miroirs Laser à Impulsions Ultracourtes

Les Miroirs Laser à Impulsions Ultracourtes maintiennent des seuils de dommages élevés induits par laser ainsi qu’une réflectivité supérieure à 99 % pour les impulsions laser ultracourtes. Ces miroirs minimisent les effets d’élargissement et de compression temporels dispersifs, en réduisant la Dispersion de Retard de Groupe (Group Delay Dispersion ou GDD) et la Dispersion de Vitesse de Groupe (Group Velocity Dispersion ou GVD) sur les gammes de longueurs d’onde spécifiées. La GDD et la GVD sont réduites en sélectionnant minitieusement une superposition de traitements qui associent une réflectivité élevée et une faible GDD. Les Miroirs Laser à Impulsions Ultracourtes sont utilisés dans une multitude d’applications dont le traitement de matériaux, la spectroscopie et le secteur biomédical. Edmund Optics propose une large gamme d’options de longueurs d’onde et d’angles d’incidence qui s’adapteront à votre application spécifique.

Miroirs Laser Ultrarapides en Silicium Traités Argent Amélioré

Miroirs Laser Ultrarapides en Silicium Traités Argent Amélioré

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Nouveau
  • Substrat de silicium pour les systèmes de lasers à impulsions ultracourtes exigeants sur le plan thermique
  • Idéaux pour les système basés sur les lasers à impulsions ultracourtes Ti:saphir et Yb
  • Conçus pour la réflexion d'impulsions ultrarapides où une faible dispersion est essentielle
  • GDD <30 fs² dans les gammes de longueurs d'onde cibles
Yb-Doped Dichroic Mirrors

Miroirs Dichroïques pour Lasers Dopés Yb

  • Haute réflectivité à 1030 nm et haute transmission à 940 nm
  • Faible dispersion de retard de groupe (GDD) <±0 fs2
  • Miroir dichroïque idéal pour les lasers à ytterbium (Yb)
Miroirs Ultrarapides PeakPower à Seuil de Dommage Élevé et à Faible GDD

Miroirs Ultrarapides PeakPower à Seuil de Dommage Élevé et à Faible GDD

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  • Seuil de dommage élevé pour lasers femtoseconde dépassant 0,75J/cm2 pour une durée d'impulsion de 25 fs à 920 nm
  • >99,5% de réflectivité avec une dispersion de retard de groupe proche de zéro
  • Idéaux pour les applications avancées des lasers femtoseconde
Miroirs Laser Ultrarapides Diélectriques à Faible GDD

Miroirs Laser Ultrarapides Diélectriques à Faible GDD

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  • GDD aussi basse que ± 20 fs2 à la gamme de longueurs d'onde de conception
  • Réflectivité supérieure à 99,9%
  • Idéaux pour les lasers ultrarapides Ti:saphir et dopés Yb
Miroirs Ultrarapides Haute Performance à Faible GDD

Miroirs Ultrarapides Haute Performance à Faible GDD

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  • Conçus avec une haute réflectivité pour une modification de la trajectoire d'un faisceau laser à impulsions ultracourtes
  • Traitement appliqué par pulvérisation ionique pour une faible dispersion et une faible absorption
  • GDD de 0±20fs2 dans la gamme de longueurs d'onde de conception
Miroirs Ultrarapides Double Bande à Faible GDD

Miroirs Ultrarapides Double Bande à Faible GDD

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  • Haute réflectivité et faible dispersion de retard de groupe (GDD) pour modifier la trajectoire de faisceaux ultrarapides
  • Les traitements IBS minimisent les pertes par diffusion et absorption
  • GDD proche de zéro pour la première et la seconde harmonique des lasers Ti:saphir et dopés Yb
Miroirs Laser Ultrarapides Traités Argent Amélioré

Miroirs Laser Ultrarapides Traités Argent Amélioré

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UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors

Miroirs Multicouches Attosecondes EUV/XUV d’UltraFast Innovations (UFI)

  • Conçus pour des impulsions de 330 attosecondes à 65 eV (19 nm)
  • Traitement multicouches avec une réflectivité maximale de 38%
  • Substrats superpolis d’une rugosité de surface ≤1 Å (angström)
  • Miroirs Plans Ultraviolets Extrêmes et Miroirs Sphériques Ultraviolets Extrêmes conçus à 3,5 nm également disponibles
  • Disponibles en stock
  • Pas de quantité ou de valeur minimum de commande
Miroirs Ultrarapides Hautement Dispersifs d’UltraFast Innovations (UFI)

Miroirs Ultrarapides Hautement Dispersifs d’UltraFast Innovations (UFI)

Nouveau
  • Traitements pour impulsions ultracourtes chirpées pour la compression d'impulsions et la compensation de la dispersion
  • Réflectivité élevée pouvant atteindre plus de 99,9% avec une dispersion négative du retard de groupe (GDD) contrôlée avec précision
  • Disponibles pour les systèmes laser ultra-rapides Ti:saphir, dopés à l'ytterbium (Yb), au thulium (Tm) et à l'holmium (Ho)
Miroirs Ultrarapides de Contrôle de la Dispersion d’UltraFast Innovations (UFI)

Miroirs Ultrarapides de Contrôle de la Dispersion d’UltraFast Innovations (UFI)

  • Conçus pour le contrôle de la dispersion, la compression d'impulsions et la compensation de la dispersion
  • Traitements à haute réflectance pour les applications laser exigeantes
  • Optimisés pour l'intégration dans des systèmes laser à impulsions ultracourtes
Miroirs pour Lasers Picoseconde et Femtoseconde Ultrarapides à Haute Énergie

Miroirs pour Lasers Picoseconde et Femtoseconde Ultrarapides à Haute Énergie

Nouveau
Miroirs Paraboliques Hors Axe Ultrarapides Traités Argent Amélioré

Miroirs Paraboliques Hors Axe Ultrarapides Traités Argent Amélioré

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  • Traitement laser ultrarapide en argent amélioré pour les lasers Ti:saphir et dopés Yb
  • Dispersion de retard de groupe 0 ±20 fs2 à 600 - 1050 nmm
  • Rugosité de surface RMS ≤50 Å pour minimiser la dispersion
TECHSPEC® Ultrafast-Enhanced Silver Concave Laser Mirrors

Miroirs Laser Concaves Ultrarapides Traités Argent Amélioré

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UltraFast Innovations (UFI) Ultra-Broadband Complementary Chirped Mirror Pairs

Paires de Miroirs Chirpés Complémentaires à Ultralarge Bande d'UltraFast Innovations (UFI)

  • Idéales pour les systèmes d'amplification à impulsions chirpées et les oscillateurs laser à ultralarge bande
  • La conception de l'ultralarge bande permet de compenser la dispersion
  • GDD négative aussi basse que -60 fs2 et haute réflectivité (>99%) à 600 - 950 nm ou 650 - 1350 nm
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