Objectif Aplanétique aplanoXX 800 nm, NA de 0,80 | aplanoXX NA0.8_20_800

Description commune pour les Produits de la même Famille

• Conception optique aplanétique
• Ouverture numérique élevée pour les petites tailles de spot
• Conceptions pour 800 et 1030 nm avec une profondeur de focalisation allant jusqu'à 4 mm
• Objectifs Multi-Focaux foXXus d’AdlOptica également disponibles

Les Objectifs Aplanétiques aplanoXX d'AdlOptica compensent l'aberration sphérique et la coma lors de la mise au point dans le verre, le saphir, le carbure de silicium, le silicium, le PMMA et d'autres matériaux transparents à des profondeurs allant jusqu'à 4 mm. Ces objectifs sont conçus pour être utilisés avec des lasers ultra-rapides à l’état solide et à fibre et sont optimisés pour 800 nm (Ti:saphir) et 1030 nm (dopé Yb). Dotés d'un filetage de monture C et d'une conception optique insensible au désalignement, ces objectifs sont faciles à intégrer dans les systèmes laser. Les Objectifs Aplanétiques aplanoXX d'AdlOptica sont idéaux pour le micro-usinage du verre, la nanofabrication 3D, l'enregistrement des guides d'ondes et la gravure laser sélective. Un collier sur l'objectif permet de régler manuellement la mise au point et une fenêtre frontale remplaçable protège des débris pendant l’usinage de matériaux.