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Filtre Dichroïque EUV/IR, 20-40 nm, 50,8 mm de dia.

Extreme Ultraviolet (EUV) Dichroic Filters

Extreme Ultraviolet (EUV) Dichroic Filters

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Stock #18-280 Nouveau
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Tolérance Dimensionelle (mm):
+0.0/-0.2
Diamètre (mm):
50.80
Épaisseur (mm):
5.08 ±0.1
Gamme de Longeur d'Onde (nm):
20 - 40
Traitement:
Dielectric Multilayer AR
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Réflexion (%):
>40
Qualité de Surface:
20-10
Type:
Dichroic Mirror
Parallélisme (arcmin):
<5
Surface Figure, RMS:
<λ/10 @ 633nm

Conformité réglementaire

RoHS:

Description commune pour les Produits de la même Famille

  • Séparent l'EUV de la source laser NIR dans la génération d'harmoniques d'ordre élevé
  • Conçus pour des seuils de dommage élevés
  • Prise en charge des applications de 10 à 40 nm

Les Filtres Dichroïques pour l'Ultraviolet Extrême (EUV), également connus sous le nom de séparateurs de faisceau, sont destinés aux applications de génération d'harmoniques élevées en offrant une efficacité de séparation élevée entre les longueurs d'onde EUV et NIR. Dotés d'un substrat en silice fondue, ces filtres supportent des puissances laser plus élevées que les séparateurs de faisceau à l’angle de Brewster et les filtres EUV. Les Filtres Dichroïques EUV offrent une large bande passante de 5 à 40 nm. Outre la génération d'harmoniques élevées, ces miroirs peuvent également être utilisés dans des systèmes qui prennent en charge les applications EUV, telles que la lithographie EUV, le nano-usinage EUV, l'imagerie diffractive cohérente et la génération d'impulsions attosecondes ultrarapides.

 
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