Miroir Ultrarapide Hautement Dispersif 800 nm, 25,4 mm, 5°

UltraFast Innovations (UFI) 800nm Highly-Dispersive Ultrafast Mirrors

Stock #12-331 Contact

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€648,00

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Type:

Laser Mirror

Wedge (arcmin):

10 ±5

Ouverture Utile (%):

Surface Arrière:

Commercial Polish

Réflexion à la Longueur d'Onde de Conception (%):

>99.9% (typical, p-polarization)

Spécification du Traitement:

R_avg >99.8%, GDD = -1300 fs² @ 780 - 830nm (p-polarization)
R_abs >99.9% @ 800nm (typical, p-polarization)

GDD Specification:

-1300fs² @ 780 - 830nm

Gamme de Longeur d'Onde (nm):

780 - 830

Irregularity (P-V) @ 632.8nm:

λ/10

Type de Traitement:

Dielectric

Traitement:

Ultrafast (780-830nm)

Longueur d'Onde de Conception DWL (nm):

800

Diamètre (mm):

25.40 +0.0/-0.1

Épaisseur (mm):

6.35 ±0.2

Angle d'Incidence (°):

Fused Silica (Corning 7980)

0.3 J/cm² @ 800nm, 50fs, 1kHz, 100μm Beam Diameter

Conformité réglementaire

RoHS 2015:

Conforme

Certificate of Conformance:

Visionner

Reach 235:

Conforme

Description commune pour les Produits de la même Famille

Réflexion >99,8% (polarisation p) entre 780 et 830 nm
Faible dispersion de retard de groupe à un AOI de 5° ou 20°
Idéaux pour la compression d'impulsions des lasers ultrarapides Ti:saphir
Miroirs à Faible GDD également disponibles

Les Miroirs Ultrarapides Hautement Dispersifs, 780 et 800 nm, d’UltraFast Innovations (UFI) sont dotés d'un traitement multicouche chirpé ultrarapide optimisé basé sur l'interférence optique dispersive qui offre une faible dispersion de retard de groupe (GDD) et une réflectivité élevée. Ces miroirs ultrarapides offrent des GDD aussi faibles que -1300 fs² et une réflectivité supérieure à 99,8% pour la polarisation p. La conception hautement dispersive de ces miroirs ultrarapides permet de contrôler les dispersions de troisième ordre et d'ordre supérieur avec une grande stabilité du faisceau à un angle d'incidence de 5° ou 20°. Les Miroirs Ultrarapides Hautement Dispersifs, 780 et 800 nm, d’UltraFast Innovations (UFI) sont idéaux pour la compensation de la dispersion et la compression d'impulsions laser ultracourtes, comme les lasers Ti:saphir. Des tailles impériales standard sont disponibles, avec des substrats en silice fondue.