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Miroir Concave Multicouches EUV/XUV Attosecondes, 25,4 mm de dia. x 250 mm EFL, 19 nm (65 eV), 5°

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UltraFast Innovations (UFI) EUV/XUV Attosecond Multilayer Mirrors

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Spécifications

Caractéristiques du produit

Type:
Concave Mirror
Durée d’Impulsion Compatible:
330 attoseconds
Numéro de Modèle:
XUV65BW6

Propriétés physiques et mécaniques

Diamètre (mm):
25.40 ±0.13
Surface Arrière:
Commercial Polish
Ouverture Utile (%):
80
Bords:
Fine Ground
Rugosité de Surface (Angstroms):
<1
Épaisseur au Bord ET (mm):
6.35 ±0.20

Propriétés optiques

Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
Spécification du Traitement:
Rs > 38% @ 65eV/19nm
Traitement:
EUV Multilayer (19nm)
Angle d'Incidence (°):
5
Longueur d'Onde de Conception DWL (nm):
19
Distance Focale EFL (mm):
250.00
Radius of Curvature (mm):
500.00
Rayon R1 (mm):
500.00
Irregularity (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
Réflexion à la Longueur d'Onde de Conception (%):
>38

Electrical

Énergie Centrale (eV):
65 ±2
Largeur de Bande (eV):
6

Conformité réglementaire

RoHS 2015:
Certificate of Conformance:
Reach 235:

Description produit

  • Conçus pour des impulsions de 330 attosecondes à 65 eV (19 nm)
  • Traitement multicouches avec une réflectivité maximale de 38%
  • Substrats superpolis d’une rugosité de surface ≤1 Å (angström)
  • Miroirs Plans Ultraviolets Extrêmes et Miroirs Sphériques Ultraviolets Extrêmes conçus à 3,5 nm également disponibles
  • Disponibles en stock
  • Pas de quantité ou de valeur minimum de commande

Les Miroirs Multicouches Attosecondes pour l’Ultraviolet Exrême (EUV/XUV) d’UltraFast Innovations (UFI) sont conçus pour diriger, focaliser et modeler les impulsions attosecondes. Leur traitement multicouche est centré à 65 eV (19 nm) avec une largeur de bande de 6 eV (1,8 nm) et fournit un pic de réflectivité de 38% pour la lumière polarisée s. Ces miroirs supportent des impulsions EUV d'une durée de 330 attosecondes. Les Miroirs Attosecondes pour l’Ultraviolet Exrême (EUV/XUV) sont idéaux pour générer et modeler des impulsions attosecondes basées sur la génération d'harmoniques élevées (HHG), les lasers à électrons libres (FEL) ou d'autres applications optiques quantiques.

Le dépôt par faisceau d'ions de précision atomique permet d'obtenir des couches de traitement atomiquement lisses. Ces miroirs permettent un contrôle précis de la longueur d'onde et de la phase spectrale avec une efficacité élevée dans une gamme croissante d’applications. La science de l'attoseconde repousse les limites des lasers ultrarapides, donnant accès à certains des processus scientifiques les plus fondamentaux, comme le mouvement des électrons. Les miroirs EUV sont également connus sous le nom de miroirs XUV/rayon X doux. Le principe physique qui sous-tend les miroirs multicouches attoseconde EUV est l'interférence du rayonnement EUV réfléchi et dispersé par chaque interface de la pile multicouche. Des miroirs plats et concaves d'un diamètre de 25,4 mm sont disponibles. Veuillez nous contacter si votre application nécessite un Miroir Multicouche EUV avec une énergie centrale, une largeur de bande ou d'autres spécifications personnalisées.

Informations techniques

Manipulation spéciale

Ces optiques nécessitent une manipulation particulière afin d'éviter tout dommage et de garantir leur performance à long terme. Une manipulation, un nettoyage et un stockage appropriés sont essentiels pour préserver la qualité optique. Consultez nos Ressources de nettoyage des optiques pour obtenir des instructions étape par étape et découvrir les meilleures pratiques. Pour obtenir une assistance personnalisée, envoyez-nous un e-mail ou discutez avec notre équipe d'assistance technique.

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