
- Réflectivité élevée et dispersion de retard de groupe (GDD) négative
- Idéaux pour la compensation de la dispersion et la compression du faisceau à un AOI de 45°
- Conçus pour les lasers femtoseconde, y compris Ti:saphir

- Idéales pour les systèmes d'amplification à impulsions chirpées et les oscillateurs laser à ultralarge bande
- La conception de l'ultralarge bande permet de compenser la dispersion
- GDD négative aussi basse que -60 fs2 et haute réflectivité (>99%) à 600 - 950 nm ou 650 - 1350 nm

- Réflexion >99,8% (polarisation p) entre 780 et 830 nm
- Faible dispersion de retard de groupe à un AOI de 5° ou 20°
- Idéaux pour la compression d'impulsions des lasers ultrarapides Ti:saphir
- Miroirs à Faible GDD également disponibles

- GDD fortement négative jusqu’à -1000 fs2 à un angle d’incidence (AOI) de 7°
- >99,8% de réflexion minimum sur une largeur de bande de 60 nm
- Idéaux pour la compensation de dispersion de lasers à fibre dopés Yb.

- GDD négative de -200 fs2 à un angle d’incidence (AOI) de 5°
- >99,8% de réflexion (polarisation p) entre 950 et 1120 nm
- Conçus pour la compression d’impulsion des lasers à fibre dopés Yb

- Réflectivité >99,9% entre 2000 et 2200 nm
- GDD de -1000 fs2 @ 5° angle d’incidence
- Idéaux pour la compression d'impulsions <100 fs des lasers au thulium et au holmium
- Traitement ultrarapide chirpé à large bande

- >99,99% de réflectivité à 1030 nm et 1064 nm
- Seuil de dommage laser de 50 J/cm2 à 1064 nm, 100 Hz, 8 ns
- Conception universelle pour les impulsions laser nanoseconde, picoseconde et femtoseconde
- Des options personnalisées sont disponibles jusqu'à un diamètre de 200 mm

- GDD positive jusqu'à 100fs2 à un AOI de 5°
- Réflectivité élevée >99,5% pour les polarisations s et p
- Performance large bande pour 700 à 1100 nm
- Prismes Ultrarapides de Compensation de la Dispersion également disponibles

- GDD négative de -145 fs2
- Angle d’incidence de 5° entre 255 et 277nm
- Idéaux pour la compression des impulsions ou la compensation de la dispersion des faisceaux laser UV à impulsions ultracourtes
- Traitement UV ultrarapide unique à dispersion négative

- Traitement ultrarapide hautement dispersif avec un effet de lentille thermique réduit
- GDD fortement négative jusqu’à -1000 fs2 à un angle d’incidence de 5°
- >99,5% de réflexion minimum (polarisation p) sur une largeur de bande de 50 nm
- Idéaux pour la génération d'impulsions ultracourtes de haute puissance

- GDD positive de 500 fs2 à un AOI de 5°
- >99,9% de réflexion minimum (polarisation P)
- Conceptions de traitement large bande dans l’IR moyen couvrant les longueurs d’onde de 2800 à 3600 nm
- Idéaux pour les lasers à blocage de mode dans l'IR moyen

- Dispersion de troisième ordre (TOD) hautement négative jusqu'à -2500 fs3 à 7° AOI
- Idéaux pour compenser la TOD sans introduire de GDD supplémentaire
- Faible dispersion de retard de groupe (GDD) de 0 fs2
- Réseaux de Diffraction en Transmission II-VI LightSmyth™ également disponibles

- Conçus pour des impulsions de 330 attosecondes à 65 eV (19 nm)
- Traitement multicouches avec une réflectivité maximale de 38%
- Substrats superpolis d’une rugosité de surface ≤1 Å (angström)
- Miroirs Plans Ultraviolets Extrêmes et Miroirs Sphériques Ultraviolets Extrêmes conçus à 3,5 nm également disponibles
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