MÉTROLOGIE

Si on peut le mesurer, on peut le fabriquer

Edmund Optics^® utilise une grande variété de technologies de métrologie de pointe pour s'assurer que toutes les spécifications sont respectées. Nos capacités en matière de métrologie en cours de fabrication comprennent la spectroscopie à cavité optique, l'interférométrie en lumière blanche, la profilométrie 3D sans contact, et bien d'autres encore. Un laboratoire interne d'essais laser permet d'améliorer les processus internes et de vérifier le seuil de dommage laser.

Technologies

TECHNOLOGIE CLÉ

Interférométrie à courte longueur de cohérence

Source LED spéciale utilisée pour mesurer des surfaces parallèles et planes tout en minimisant les réflexions sur les surfaces arrières

Élimine la nécessité d'un traitement spécial de la surface arrière, ce qui minimise le temps de mesure, le risque d'endommagement de la pièce et le risque de mesures inexactes

Idéale pour mesurer les optiques à double traitement latéral, tels que les miroirs à traitement IBS avec des traitements compensateurs de contraintes sur la face arrière

TECHNOLOGIE CLÉ

Interférométrie photothermique à trajet commun

Mesure précise de l'absorption pour une meilleure caractérisation des propriétés spectrales des traitements optiques et des substrats

Une géométrie pompe-sonde mesure le changement d'indice de réfraction dû à la dilatation thermique induite par l'absorption

Mesure de l'absorption plus sensible et plus précise pour les très faibles niveaux d'absorption que les spectrophotomètres, qui déterminent l'absorption indirectement en mesurant directement la transmission

TECHNOLOGIE CLÉ

Métrologie des assemblages d’optique laser

Essais en interne pour mesurer la performance de l'assemblage

Erreur du front d'onde transmis

Profilage de faisceau laser

Mesure de la « Power in the Bucket » et de l'énergie sur la cible

Développement de tests spécifiques aux applications

TECHNOLOGIE CLÉ

Dégradation par ultraviolet (UV)

Laboratoire laser interne réalisant des expériences d'exposition au laser UV appliqué de longue durée à 355nm avec une durée d'impulsion de 10ns

La contamination induite par le laser est une préoccupation majeure pour les systèmes laser UV

La contamination due à l'environnement ou au dégazage peut réduire considérablement les performances ou entraîner une défaillance du système

La connaissance approfondie des techniques de nettoyage et d'assemblage permet d'atténuer ces effets

Tests de barreaux laser

Station de test de barreaux laser TRIOPTICS utilisée pour mesurer le coin, ou l'inclinaison de la surface, et l'erreur du front d'onde transmis des barreaux laser plates et courbes.
Précision de la mesure du coin de 1,3 arcsec, résolution de 0,05 arcsec et répétabilité de 0,12 arcsec
Précision du front d'onde de <1/20 (RMS) λ pour les longueurs d'onde de 405 à 1100 nm

Spectrophotométrie

Utilisée pour caractériser la performance spectrale réfléchissante et transmissive
Large plage de mesure spectrale de 120 nm à 20 μm
Mesures supérieures au blocage OD 7 pour une représentation précise des bandes de transmission et de réjet

Interférométrie

Mesures de front d'onde transmis et réfléchis jusqu'à < λ/20
Stitching, grande et petite ouverture, et hologrammes générés par ordinateur
Utilisée pour qualifier les irrégularités de surfaces planes, des composants sphériques et asphériques et des assemblages optiques.

Essais de détermination du seuil de dommage laser (LDT)

Composants testés à la fois en interne et en externe pour une garantie de LDT
Laser nanosecondes Nd:YAG haute puissance interne à 1064 nm et aux harmoniques (532 nm et 355 nm)
Autres longueurs d'onde et durées d'impulsion disponibles
Données d'essais disponibles sur demande

Spectroscopie à cavité optique

Mesures de haute précision des pertes avec une sensibilité de l’ordre des parties par million
Conçus pour les harmoniques Nd:YAG courantes - autres longueurs d'onde disponibles sur demande
Quantifient avec précision les optiques laser à réflectivité élevée et à faible réflectivité

Microscopie à force atomique (AFM)

Caractérisations de haute précision de la rugosité de surface et de la taille des caractéristiques et de l'emplacement
Résolution latérale jusqu'à 3 nm
Résolution verticale jusqu'à 0,1 nm

Microscopie à contraste interférentiel différentiel (DIC)

Détection de défauts à haute sensibilité dans des matériaux transmissifs
Utilisé pour analyser les dommages causés par le laser dans les traitements et substrats optiques
Surfaces analysées sous grossissement de 100 fois

Caractérisation de la dispersion ultrarapide

Mesure précise de la dispersion de retard de groupe (GDD) des optiques ultrarapides multicouches
Couverture spectrale à très large bande allant de 250 nm à 2100 nm
Précision de la GDD de ±5 fs² pour angle d’incidence compris entre 0 et 70°

Profilométrie 3D sans contact

Vérifie le profil de surface des lentilles asphériques de précision
OptiPro UltraSurf 4X 100 sans contact
Mesure les surfaces sans rayer ou endommager les pièces

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