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Miroir Laser Ultrarapide en Silicium Traité Argent Amélioré, 800 - 1150 nm, 12,7 mm de Dia.

Stock #90-194 Nouveau 3 In Stock
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Spécifications

Caractéristiques du produit

Type:
Flat Mirror

Propriétés physiques et mécaniques

Parallélisme (arcmin):
<3
Ouverture Utile (%):
90
Surface Arrière:
Commercial Polish
Diamètre (mm):
12.70 +0.00/-0.10
Épaisseur (mm):
3.18 ±0.10
Bords:
Ground, protective bevel as needed

Propriétés optiques

Qualité de Surface:
40-20
Spécification du Traitement:
Ravg >99% @ 850 - 1150nm, 0° Rs >99% @ 800 - 1150nm, 45° Rp >98.5% @ ~850 - 1100nm, 45°
GDD Specification:
0 ±30 fs2 @ 800-1100 nm
Gamme de Longeur d'Onde (nm):
800 - 1150
Planéité de Surface (P-V):
λ/1
Type de Traitement:
Ultrafast-Enhanced Silver
Traitement:
Ultrafast-Enhanced Silver (800-1150nm)
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Optical Grade Silicon
Damage Threshold, Reference: Damage threshold for optical components varies by substrate material and coating. Click here to learn more about this specification.
0.35 J/cm2 @ 1030nm, 200fs, 1 pulse (typical) 0.10 J/cm2 @ 1030nm, 200fs, 100Hz, 1000 pulses (typical)

Conformité réglementaire

Certificate of Conformance:

Description produit

  • Substrat de silicium pour les systèmes de lasers à impulsions ultracourtes exigeants sur le plan thermique
  • Idéaux pour les système basés sur les lasers à impulsions ultracourtes Ti:saphir et Yb
  • Conçus pour la réflexion d'impulsions ultrarapides où une faible dispersion est essentielle
  • GDD <30 fs² dans les gammes de longueurs d'onde cibles

Les Miroirs Laser Ultrarapides en Silicium Traités Argent Amélioré TECHSPEC® combinent un traitement argenté amélioré à large bande avec une faible dispersion de retard de groupe (GDD) pour les applications d'impulsions ultra-rapides. Ces miroirs sont conçus pour les systèmes où le maintien de la fidélité de l'impulsion est essentiel, et la réflectivité et la GDD sont caractérisées dans la gamme de longueurs d'onde spécifiée de 600 - 1000 nm ou 800 - 1150 nm, respectivement. Ces miroirs à substrat de silicium présentent une conductivité thermique plus élevée que les miroirs à substrat en silice fondue comparables, ce qui permet de répartir uniformément la chaleur absorbée dans les configurations optiques exigeantes sur le plan thermique. Les Miroirs Laser Ultrarapides en Silicium Traités Argent Amélioré TECHSPEC® sont idéaux pour la propagation de faisceaux ultrarapides à large bande où une réflectivité élevée, une dispersion contrôlée et un substrat thermiquement robuste sont souhaités.

 
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