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Miroir Dichroïque pour Lasers Dopés Yb, Faible GDD, 940/1030 nm, 12,5 mm de dia.

Yb-Doped Dichroic Mirrors

Yb-Doped Dichroic Mirrors

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Stock #28-971 Nouveau 3-4 jours
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Spécifications

Caractéristiques du produit

Type:
High Power Dichroic Window

Propriétés physiques et mécaniques

Diamètre (mm):
12.50 +0.0/-0.10
Ouverture Utile CA (mm):
11.25
Épaisseur (mm):
3.00 ±0.20
Bords:
Fine Ground

Propriétés optiques

Longueur d'Onde de Conception DWL (nm):
940nm/1030nm
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)
Angle d'Incidence (°):
0 - 5
Traitement:
S1: HR 1030nm ± 5nm, AR 940 ± 5nm
S2: AR 940nm & 1030nm ± 5nm
Spécification du Traitement:
S1: Rp & Rs >99.5% @ 1030nm;
Tp & Ts >98% @ 940nm @ 0 – 5° AOI
S2: Tp & Ts >98% @ 940nm & 1030nm
Indice de Réfraction (nd):
1.458
Planéité de Surface (P-V):
λ/10
Qualité de Surface:
10-5
Angle de Bord:
30' ±10'
Damage Threshold, Reference: Damage threshold for optical components varies by substrate material and coating. Click here to learn more about this specification.
> 20 J/cm2 @ 10ns pulses @5 kHz PRF
1MW/cm2 CW

Conformité réglementaire

RoHS:
Conforme
×
Certificate of Conformance:
Visionner
×

Description produit

  • Haute réflectivité à 1030 nm et haute transmission à 940 nm
  • Faible dispersion de retard de groupe (GDD) <±0 fs2
  • Miroir dichroïque idéal pour les lasers à ytterbium (Yb)

Les Miroirs Dichroïques pour Lasers Dopés Yb présentent une réflectivité élevée de 99,5% à 1030 nm et une transmission de 98 % à 940 nm avec des angles d'acceptation larges de 0 à 5°. Ces miroirs sont disponibles en 12,5, 25 ou 50 mm de diamètre et en 3 mm d'épaisseur. Ils sont dotés de substrats à coin qui minimisent les réflexions arrière, même à 0° AOI. Conçus pour des applications à haute puissance utilisant des impulsions nanosecondes, ces miroirs sont idéaux pour l’usinage de matériaux de précision. Les Miroirs Dichroïques pour Lasers Dopés Yb offrent également une faible dispersion de retard de groupe (GDD) de <±100 fs2 de 1030 nm à 1080 nm, ce qui les rend utiles pour les applications ultrarapides et non linéaires, y compris la microscopie multiphotonique.

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