Miroir Ultrarapide à Dispersion Positive, 25,4 mm de dia., 700 à 1100 nm

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UltraFast Innovations (UFI) Positive Dispersion Ultrafast Mirrors

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Espace téléchargement
Wedge (arcmin):
10
Ouverture Utile (%):
80
Surface Arrière:
Commercial Polish
Spécification du Traitement:
Ravg >99.5% @ 700 - 1100nm (5° AOI, p-polarization)
GDD Specification:
+100fs2 @ 700 - 1100nm (5° AOI, p-polarization)
Gamme de Longeur d'Onde (nm):
700 - 1100
Irregularity (P-V) @ 632.8nm:
λ/10
Type de Traitement:
Dielectric
Traitement:
Positive Dispersion (700-1100nm)
Diamètre (mm):
25.40 +0.00/-0.05
Épaisseur (mm):
6.35 ±0.20
Angle d'Incidence (°):
5
Substrat: Many glass manufacturers offer the same material characteristics under different trade names. Learn More
Fused Silica (Corning 7980)

Conformité réglementaire

RoHS 2015:
Certificate of Conformance:
Reach 235:

Description commune pour les Produits de la même Famille

Les Miroirs Ultrarapides à Dispersion Positive d'UltraFast Innovations (UFI) offrent une GDD positive avec le même signe de GDD que les matériaux les plus courants dans cette gamme de longueurs d'onde. Ces miroirs chirpés positivement peuvent être utilisés pour la compression d'impulsions et les systèmes d'amplificateurs à impulsions chirpées tels que les compresseurs hybrides prisme/miroir. Ces miroirs présentent une réflectance élevée >99,5% pour les polarisations s et p entre 700 et 1100 nm. Avec un angle d'incidence de 5°, ces miroirs maximisent le nombre de réflexions entre une paire de miroirs ultrarapides tout en conservant un faible encombrement. Les Miroirs Ultrarapides à Dispersion Positive d'UltraFast Innovations (UFI) ont des substrats en silice fondue avec une excellente stabilité thermique et un diamètre de 25,4 mm pour faciliter l'intégration dans les applications NIR. Veuillez nous contacter si votre système laser nécessite une taille, une longueur d'onde ou un profil d'impulsion personnalisés.

 
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